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OEM PVD 5N+ 99.9995% チタン ターゲット 高純度半導体 ターゲット 薄膜
| 製品名: | 半導体チタン標的材料 |
|---|---|
| 純度: | 5N+(99.9993%~99.9995%) |
| 穀物 サイズ: | <100um |
99.99% 純度 スプッター金属標的 表面の結晶構造を磨いた
| Surface: | Polished, Anodizing |
|---|---|
| Surface Finish: | Polished |
| Crystal Structure: | Customized |
パーソナライズされた金属標的 噴射コーティング 単体または多重配置 Ra 0.8 Um
| Coating Method: | Sputtering |
|---|---|
| Technique: | Forged And CNC Machined |
| Target Configuration: | Single Or Multiple |
インディウム合金 パーソナライズされた基板を磨き,アノード化したスプッターターゲット
| Target Bonding: | Indium |
|---|---|
| Substrate Compatibility: | Customized |
| Surface Roughness: | Ra < 0.8 Um |
カスタマイズされた丸型熱溶性粘着銃 ポリッシュされた表面のためのフリーフォール金属検出器
| Shape: | Round |
|---|---|
| Substrate Compatibility: | Customized |
| Thickness: | 10-600mm |