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中国 チタンスプッティングターゲット 100*45mm 100*40mm Ti Ti-Al Zr Cr PVDコーティング用

チタンスプッティングターゲット 100*45mm 100*40mm Ti Ti-Al Zr Cr PVDコーティング用

材料: チタン
グレード: 等級1
過剰摂取: 90-600mm
中国 チタンディスクターゲット 98x10mm, 98x12mm, 98x20mm 偽歯のために

チタンディスクターゲット 98x10mm, 98x12mm, 98x20mm 偽歯のために

サイズ: カスタマイズ
ターゲットタイプ: 回転可能
密度: カスタマイズ
中国 99.995%純度チタンスプッターターゲット PVDコーティングローータリーチューブターゲット

99.995%純度チタンスプッターターゲット PVDコーティングローータリーチューブターゲット

製品名: チタンチューブターゲット
材料: 純チタングレード1
純度: 99.9%-99.999%
中国 PVD メタルスプッタリング ターゲット 100x40mm 装飾とツールコーティング

PVD メタルスプッタリング ターゲット 100x40mm 装飾とツールコーティング

穀物 サイズ: <100um
タイプ: 放出させるターゲット
技術的な: CNC造られる転がり
中国 OEM PVD 5N+ 99.9995% チタン ターゲット 高純度半導体 ターゲット 薄膜

OEM PVD 5N+ 99.9995% チタン ターゲット 高純度半導体 ターゲット 薄膜

製品名: 半導体チタン標的材料
純度: 5N+(99.9993%~99.9995%)
穀物 サイズ: <100um
中国 99.9%~99.999% 純度 薄膜堆積 チタン標的 3N-5N チタン噴霧標的

99.9%~99.999% 純度 薄膜堆積 チタン標的 3N-5N チタン噴霧標的

製品名: 薄膜堆積チタン標的
材料: 純チタン
純度: 3N-5N
中国 パーソナライズされた単一/多重純度スプッターターゲット

パーソナライズされた単一/多重純度スプッターターゲット

Substrate Compatibility: Customized
Purity: 99.99%
Density: Customized
中国 99.99% 純度 スプッター金属標的 表面の結晶構造を磨いた

99.99% 純度 スプッター金属標的 表面の結晶構造を磨いた

Surface: Polished, Anodizing
Surface Finish: Polished
Crystal Structure: Customized
中国 パーソナライズされた金属標的 噴射コーティング 単体または多重配置 Ra 0.8 Um

パーソナライズされた金属標的 噴射コーティング 単体または多重配置 Ra 0.8 Um

Coating Method: Sputtering
Technique: Forged And CNC Machined
Target Configuration: Single Or Multiple
中国 インディウム合金 パーソナライズされた基板を磨き,アノード化したスプッターターゲット

インディウム合金 パーソナライズされた基板を磨き,アノード化したスプッターターゲット

Target Bonding: Indium
Substrate Compatibility: Customized
Surface Roughness: Ra < 0.8 Um
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