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パーソナライズされた金属標的 噴射コーティング 単体または多重配置 Ra 0.8 Um
| Coating Method: | Sputtering |
|---|---|
| Technique: | Forged And CNC Machined |
| Target Configuration: | Single Or Multiple |
インディウム合金 パーソナライズされた基板を磨き,アノード化したスプッターターゲット
| Target Bonding: | Indium |
|---|---|
| Substrate Compatibility: | Customized |
| Surface Roughness: | Ra < 0.8 Um |
カスタマイズされた丸型熱溶性粘着銃 ポリッシュされた表面のためのフリーフォール金属検出器
| Shape: | Round |
|---|---|
| Substrate Compatibility: | Customized |
| Thickness: | 10-600mm |
精密な制御で薄膜堆積のための高純度スプッターターゲットは
| Target Configuration: | Single Or Multiple |
|---|---|
| Technique: | Forged And CNC Machined |
| Coating Method: | Sputtering |
インディウム結合金属 高純度スプッターターゲットは様々な基板と互換性がある
| Coating Method: | Sputtering |
|---|---|
| Thickness: | 10-600mm |
| Surface Finish: | Polished |
インディウム結合HIP金属スプッターターゲットは,様々なフィルムコーティング
| Target Bonding: | Indium |
|---|---|
| Forming Process: | Hot Isostatic Pressing(HIP) |
| Surface: | Polished, Anodizing |
口腔義歯のためのチタン スパッタリング ターゲット ディスク 98x14mm 97x16mm ASTM F67
| 材料: | チタニウムGr1 Gr2 Gr3 Gr4 |
|---|---|
| スタンダード: | ASTM F67 |
| 形状: | ディスク/円形 |
金属の放出させるターゲット チタニウム アルミニウムChromeのジルコニウムはニオブのタンタルのモリブデンPVDのコーティングの蒸発にニッケルを被せる
| 材料: | Chromeのチタニウム アルミニウム ジルコニウムはニオブのタンタルのモリブデンにニッケルを被せる |
|---|---|
| 形状: | シリンダー/平面、円形/版/管 |
| サイズ: | 円形:Φ100*40、Φ98*40、Φ95*45、Φ90*40、Φ85*35、Φ65*40等（D） 70/100* （H） 100-2000mm |